타이어 금형은 모든 유형의 타이어 용 금형을 경화시키는 데 사용됩니다. 타이어 몰드 분류 1 : 패턴 링, 몰드 슬리브, 상부 및 하부 측면 플레이트로 구성된 능동적 몰드. 활성 금형은 원추형 표면 안내 활성 금형과 경사면 안내 활성 금형을 구별합니다. 2 : 두 개의 몰드 절반 부는 상부 몰드와 하부 몰드의 두 부분으로 구성됩니다.
금형은 타이어 가황 공정에 사용되는 중요한 도구입니다. 몰드는 필연적으로 가황 공정에서 사용되는 고무, 배합 제 및 이형제에 의해 오염된다. 주요 오염 물질은 황화물과 무기 산화물입니다. 재료, 실리콘 오일, 카본 블랙 등을 반복 사용하면 일부 패턴의 오염이 발생합니다. 따라서 타이어의 품질과 금형의 수명을 보장하기 위해 표면의 청결을 보장하기 위해 금형을 자주 청소해야합니다. 이를 고려하여 타이어 몰드 클리닝 기술의 개발은 업계의 주목을 끌었습니다.
1. 타이어 성형의 전통적인 청소 방법
1.1 기계적 세척 방법
수동 샌딩 또는 스틸 와이어 물리적 연삭 및 드라이 블라스팅을 사용할 수 있으며 다양한 조합을 사용하여 청소할 수 있습니다. 기계 청소는 타이어 업계에서 널리 채택 된 성숙한 기술입니다. 이 방법은 간단하고 쉬운 작동, 장비 및 공구에 대한 낮은 요구의 장점을 가지지 만 또한 극복 할 수없는 결함을 가지고있다 : 금형의 기계적 손상 및 금형의 수명 단축; 샌드 블라스팅은 몰드의 벤트 구멍을 막기 쉽고 블라스팅 후 벤트 (venting)는 벤트가 매우 큽니다. 금형을 분해해야 노동 강도가 높고 청소주기가 길어야합니다.
2. 새로운 청소 기술
2.1 레이저 클리닝 기술
레이저 클리닝 기술은 지난 10 년 동안 급속하게 발전해 온 새로운 유형의 클리닝 기술입니다. 그것은 점차적으로 많은 분야에서 전통적인 세정 공정을 그 자체의 장점으로 대체 해 왔습니다.
레이저 클리닝 기술은 고 에너지 레이저 빔을 사용하여 작업 물의 표면을 비추어 먼지, 녹 또는 코팅의 표면을 즉시 증발 또는 껍질을 벗기고 표면 부착 또는 표면 코팅을 사용하여 세정 대상물을 고속으로 제거함으로써 청정 공정을 달성 할 수있다. 그것은 레이저와 물질 사이의 상호 작용에 기초한 새로운 기술입니다. 전통적인 기계 세정, 화학 세정 및 초음파 세정 (습식 세정)과 달리 오존층을 파괴하는 CR Lixin 유기 용매는 필요하지 않습니다. 오염이없고, 소음이없고, 인체와 환경에 해를 끼치 지 않는 "녹색"청소 기술입니다.
레이저 클리닝은 몰드 클리닝의 메커니즘면에서 레이저 에너지의 특정 파장에 대해 매우 다른 흡수 계수를 갖는 깨끗한 기판 (전구체라고도 함)과 표면 부착 (토양)을 사용합니다. 표면으로 방사 된 레이저 에너지의 대부분은 가열되거나 기화되고 증발되거나 즉각적으로 팽창 된 표면 침전물에 흡수되어 표면에 형성된 증기 흐름에 의해 구동되어 세정 목적을 위해 물체 표면에서 분리됩니다 .
특히 타이어 몰드 클리닝에 사용되는 몰드는 특정 파장의 레이저 광을 흡수하고 에너지는 매우 작으며 손상을 일으키지 않습니다. 곰팡이 표면의 흙 (황화물, 무기 산화물, 실리콘 오일, 카본 블랙 등)은 많은 양의 에너지를 흡수하여 즉시 팽창합니다. 기화 표면에서 기화 증발, 청소 효과를 얻을 수 있습니다.
