첫째, 레이저 마킹 기계의 두 가지 인식 원리가 있습니다 :
1) 뜨거운 일
집중 에너지 흐름 인 고 에너지 밀도의 레이저 빔은 처리되는 재료의 표면을 조사하고, 재료의 표면에서 레이저 에너지를 흡수하고, 조사 된 영역에서 열적 여기 프로세스를 생성하여, 재료 코팅 온도 상승으로 인해 비정상적, 용융, 제거, 증발 등이 발생합니다.
2) 냉간 가공
물질 (특히 유기 물질) 또는 주변 매체에서 화학적 결합을 방해하는 높은 에너지의 에너지를 가진 자외선 광자. 이러한 유형의 냉간 가공은 열적으로 제거되지 않지만 화학적 인 결합의 콜드 스트리핑을 방해하는 열 손상의 부작용을 일으키지 않으므로 레이저 마킹에서 특히 중요합니다. 따라서 표면의 내부 층과 표면 부근을 가열하지 않습니다 기계 가공 또는 열 변형 등등.
둘째, 레이저 마킹 머신의 일반적인 분류
다른 레이저에 따라 가장 일반적인 레이저 마킹 기계는 다음과 같이 나눌 수 있습니다 : CO2 레이저 마킹 머신, 반도체 레이저 마킹 머신, YAG 레이저 마킹 머신, 파이버 레이저 마킹 머신.
레이저의 다른 가시성에 따르면 : UV 레이저 마킹 머신 (보이지 않는), 녹색 레이저 마킹 머신 (가시 레이저), 적외선 레이저 마킹 머신 (보이지 않는 레이저).
1) YAG 레이저 마킹 머신 : 크립톤 램프를 에너지 소스 (여기 소스)로 사용, ND : 레이저 생성 매체로 YAG를 사용하여 특정 파장을 방출하여 레이저를 방출하는 물질의 전이 수준을 높일 수 있습니다. 빔에 재료의 레이저 가공 형성.
2) 이산화탄소 레이저 마킹 장치 : CO2 가스는 레이저를 발생시키는 매체로서 방전관에 충전된다. 전극에 고전압이인가되고 방전관에서 글로우 방전이 발생하면 가스 분자가 방출되어 레이저 에너지가 증폭 될 수있다.
3) 펌프 YAG 레이저 마킹 기계의 반도체 측면 : 808nm 반도체 레이저 다이오드의 펌핑 Nd : YAG 매체의 파장의 사용, 매체는 파장의 형성의 작용하에 Q 스위치에서 거꾸로 된 입자를 대량 생산합니다 1064nm 거대 펄스 레이저 출력, 전기 광학 변환 효율.
4) 반도체 엔드 펌프 YAG 레이저 마킹 기계 : 레이저 출력을 생성하기 위해 광학 렌즈 그룹으로 펌핑 된 펌프 광 (808nm)의 레이저 결정 끝에서 직접. 라인 광 변환 효율이 크게 향상되었습니다.
5) 광섬유 레이저 마킹 기계 : 광섬유에서 직접 레이저 출력.
