
3D 동적 포커싱 스캐닝 시스템은 대형-포맷 레이저 마킹, 절단, 드릴링, 레이저 미세 가공, 3D 응용 및 레이저 고속 프로토타이핑에 적합하며 다양한 금속을 가공할 수 있습니다.
제품특징
■ 낮은 광학 손실, 작은 설치 공간, 높은 위치 정확도, 빠른 마킹 속도, 강력한 -간섭 방지 기능을 제공하는 광학 설계가 특징입니다. 대형-포맷 마킹, 복잡한 곡면 처리, 깊은 조각과 같은 정밀 레이저 처리 작업에 적합합니다.
■ 검류계 시스템은 더 빠른 응답 시간을 제공하므로 3000mm/s를 초과하는 속도에서 정밀한 충전이 가능합니다.
■ 측면에 장착된 진폭 조정 메커니즘을 활용하여 100mm에서 300mm까지 마킹 필드를 원활하게 전환할 수 있습니다.
■ 최대 100mm의 마킹 높이 차이를 지원하여 높이 변화가 심한 물체를 처리하기 위한 요구 사항을 충족합니다.
■ 초점 위치를 정밀하게 제어합니다. 3D 딥 마킹 중에 Z-축 범위가 자동으로 조정되어 레이저 점 크기를 최소화하여 물체 표면 전반에 걸쳐 일관된 마킹 품질을 보장합니다.
■ 전체 시스템에는 전자파 적합성(EMC) 최적화 설계가 적용되어 높은 신호-대-잡음비와 강력한 간섭 저항을 제공합니다.
제품 매개변수
| 원자 램프 | 1064nm 파이버 레이저 | |
| 크기(조정 가능) | 100×100mm~300×300mm | |
| 입사광점 요구사항 | 6mm~7.5mm | |
| X&Y 축 렌즈 스팟 | 10mm | |
| 속도 | ||
| 마킹 속도 | 6000mm/초 | |
| 포지셔닝 속도 | 12000mm/초 | |
| 쓰기 속도 | 559cps | |
| 단계 응답 시간(총 이동의 1%) | 260us | |
| 단계 응답 시간(총 이동의 10%) | 830us | |
| 추적 오류 | 144us 이하 | |
| 정확성과 오류 | ||
| 선형성 | 99.90% | |
| 반복성 | <8μRad | |
| 이득 오류 | <5mRad | |
| 영-점 오프셋(배치 원점 오류) | <5mRad | |
| 장기-드리프트(8시간 연속 작동) | <0.5mRad | |
| 스케일 드리프트 | <40PPM/℃ | |
| 제로 드리프트 | <15μRad/℃ | |
| 전력 및 신호 | ||
| 입력 전압 | ±24VDC | |
| 정격전류 | 4A | |
| 인터페이스 프로토콜 | XY2-100 | |
| 기계적 스캐닝 각도 | ±12.5도 | |
| 작동 온도, 치수 | ||
| 작동 온도 | 0도 ~45도 | |
| 보관온도 | -10도 ~60도 | |
| 검류계 치수(길이 × 너비 × 높이) | 262X110X116mm | |
| 검류계 무게 | ≒4.31Kg | |
형식, 초점 거리 및 초점 구성의 예:
|
마킹 신청 |
100X100mm |
200X200mm |
300X300mm |
|
초점 거리 |
160mm |
245mm |
285mm |
| 집중된 광점 |
0.035mm |
0.041mm |
0.067mm |
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