3D 동적 포커싱 스캐닝 시스템은 대형-포맷 레이저 마킹, 절단, 드릴링, 레이저 미세 가공, 3D 응용 및 레이저 고속 프로토타이핑에 적합하며 다양한 금속을 가공할 수 있습니다.

3D 동적 포커싱 스캐닝 시스템은 대형-포맷 레이저 마킹, 절단, 드릴링, 레이저 미세 가공, 3D 응용 및 레이저 고속 프로토타이핑에 적합하며 다양한 금속을 가공할 수 있습니다.

제품 특징 ■ 낮은 광학 손실, 작은 설치 공간, 높은 위치 정확도, 빠른 마킹 속도, 강력한 -간섭 방지 기능을 제공하는 광학 설계가 특징입니다. 대형-포맷 마킹, 복잡한 곡면과 같은 정밀 레이저 가공 작업에 적합합니다...
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제품 소개

제품특징

 

■ 낮은 광학 손실, 작은 설치 공간, 높은 위치 정확도, 빠른 마킹 속도, 강력한 -간섭 방지 기능을 제공하는 광학 설계가 특징입니다. 대형-포맷 마킹, 복잡한 곡면 처리, 깊은 조각과 같은 정밀 레이저 처리 작업에 적합합니다.

■ 검류계 시스템은 더 빠른 응답 시간을 제공하므로 3000mm/s를 초과하는 속도에서 정밀한 충전이 가능합니다.

■ 측면에 장착된 진폭 조정 메커니즘을 활용하여 100mm에서 300mm까지 마킹 필드를 원활하게 전환할 수 있습니다.

■ 최대 100mm의 마킹 높이 차이를 지원하여 높이 변화가 심한 물체를 처리하기 위한 요구 사항을 충족합니다.

■ 초점 위치를 정밀하게 제어합니다. 3D 딥 마킹 중에 Z-축 범위가 자동으로 조정되어 레이저 점 크기를 최소화하여 물체 표면 전반에 걸쳐 일관된 마킹 품질을 보장합니다.

■ 전체 시스템에는 전자파 적합성(EMC) 최적화 설계가 적용되어 높은 신호-대-잡음비와 강력한 간섭 저항을 제공합니다.

 

제품 매개변수

원자 램프 1064nm 파이버 레이저
크기(조정 가능) 100×100mm~300×300mm
입사광점 요구사항 6mm~7.5mm
X&Y 축 렌즈 스팟 10mm
속도
마킹 속도 6000mm/초
포지셔닝 속도 12000mm/초
쓰기 속도 559cps
단계 응답 시간(총 이동의 1%) 260us
단계 응답 시간(총 이동의 10%) 830us
추적 오류 144us 이하
정확성과 오류
선형성 99.90%
반복성 <8μRad
이득 오류 <5mRad
영-점 오프셋(배치 원점 오류) <5mRad
장기-드리프트(8시간 연속 작동) <0.5mRad
스케일 드리프트 <40PPM/℃
제로 드리프트 <15μRad/℃
전력 및 신호
입력 전압 ±24VDC
정격전류 4A
인터페이스 프로토콜 XY2-100
기계적 스캐닝 각도 ±12.5도
작동 온도, 치수
작동 온도 0도 ~45도
보관온도 -10도 ~60도
검류계 치수(길이 × 너비 × 높이) 262X110X116mm
검류계 무게 ≒4.31Kg

형식, 초점 거리 및 초점 구성의 예:

 

 

마킹 신청

100X100mm

200X200mm

300X300mm

초점 거리

160mm

245mm

285mm

집중된 광점

0.035mm

0.041mm

0.067mm

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